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Accurion EP4
成像椭偏仪

Accurion EP4

成像椭偏仪

EP4是新一代的成像椭偏仪,它有机地结合了传统光谱椭偏仪和光学显微镜技术。这使得我们能够在小至1µm的微结构上以椭偏仪的灵敏度表征薄膜厚度和折射率。显微镜部分能够同时测量光学系统全视场范围内的所有结构。传统的椭偏仪注重于测量整个光斑,而不能实现高精度的横向分辨率,并且需要逐点测量。

EP4的显微镜功能使得我们能够获得微观结构的椭偏增强对比图像。在相机的实时图像中可以看到折射率或厚度的微小变化。允许识别椭偏测量的感兴趣区域(选区测量),以获得厚度(0.1 nm-10µm)和折射率的值。单次测量就可以获取厚度和折射率横向变化的3D图。

各种联用技术,例如原子力显微镜(AFM)、石英晶体微天平(QCM-D)、反射式测量仪、拉曼光谱仪等等,可以对同一区域进行原位分析。

另有在各种受控温度和气氛环境下测量的附件可选。

优秀的模拟软件

EP4软件允许直接控制仪器,同时进行数据分析或者离线分析。EP4Control控制软件操控仪器,可以在实时视图中选择测量区域(选区测量),可以测量多个样品和多个感兴趣的区域,并实现自动测量。DataStudio数据处理软件支持对各种记录的数据进行数据处理。直方图分析和线条轮廓图让您对被测样品细节有更为深入的了解。EP4Model模型拟合软件直接对数据进行建模。其直观的处理概念有助于用户创建简单到复杂的薄膜样品结构模型。并模拟分析得到样品的厚度和折射率信息。还可以获得进一步的物理参数,例如混合材料层的带隙或体积分数。

  • 模块化配置:从布鲁斯特角显微镜、单波长成像椭偏仪、多波长成像椭偏仪、全光谱成像椭偏仪,在不同配置之间可轻松升级。
  • 波长范围190/250/360nm至1000/1700/2700 nm的光谱成像椭偏仪
  • 横向分辨率低至1um,可测量小至1um的微结构的厚度和折射率
  • 用于样品实时可视化观测的椭偏增强对比度图像
  • 先图像识别样品,然后再测量:在实时视场中直观地选择测量区域(选区测量)
  • 所选视场内多个区域(多个选区)的平行测量
  • 光斑切割技术,消除椭偏测量的背底反射
  • 多种附件可选,如电化学池、温度控制或液体处理样品池,满足多种测量需求
  • 质量控制:提供OEM版本用于产品线中的质量控制

 

技术

成像椭偏技术(IE)

Accurion成像椭偏仪将椭偏仪和光学显微镜的优点有机地结合在一起。这两种技术的统一创造了一种特有的计量工具,它重新定义了椭偏仪和偏光显微镜。成像椭偏仪增强的空间分辨率(约1µm)将椭偏测量扩展到微观分析、微电子和生物分析的新领域。

成像椭偏法简介

  • 成像椭偏法是一种全光学、非接触式测量技术,适用于微结构薄膜样品和基底样品的膜层厚度测量和材料表征。
  • 该技术将显微镜成像与光谱椭偏测量技术相结合。使空间分辨率达到1µm,轻松突破了传统椭偏仪、反射仪等其他光学测量工具的极限。
  • 椭偏测量的原理是基于样品与偏振光的相互作用。测量获得的偏振参数通过计算建模转化为样品的物理特性图像,如膜层厚度、折射率和吸收系数、粗糙度或各向异性等数据。

应用

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