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MEMS
成像椭偏仪

应用领域

  • 对小至 1μm 的 MEMS 结构进行光谱椭偏测量
  • 梳状结构的精确膜厚测量,厚度分辨率为 0.1nm
  • 一次测量获得多个结果:薄膜厚度、折射率、成分、污染物
  • ECM 模式(椭偏对比增强显微镜)可实现快速质量控制
  • 曲面上的测量

 

典型应用包括:

  • 微机电系统传感器
  • 微机电系统镜子和弹簧涂层
  • 射频微机电系统
  • 薄膜封装
  • 气体分析仪
  • 湿度传感器

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